深紫外116NM氟化锂

深紫外紫外116nm氟化锂晶体是一种四方晶系晶体，具有高纯度、高密度、低杂质等特点，因此在高功率激光系统、红外光学系统等领域得到广泛应用，它可以作为透镜、棱镜、窗口片等光学元件，提供高透过率的紫外光线。这种晶体通常为单晶或多晶，可以用于制造高精度和高稳定性的光学器件和仪器。微米光学提供氟化锂透镜毛坯，平凸透镜，棱镜和非球面。采用的工艺为PITECH 抛光和DTM相结合。微米光学拥有完备的光学晶体生产设备和经验，可提供高质量的极紫外116nm氟化锂晶体。作为光学晶体厂家，还可以根据需求为您定制不同形状规格的光学晶体，如您有任何问题或需求，欢迎在线咨询。

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	直径(mm)	厚度(mm)	晶体结构	晶向
	筛选重置 3-100	筛选重置 0.5-60	筛选重置单晶	筛选重置 <100> <111>
更多参数+ 收回	3-100	0.5-60	单晶	<100>
极紫外116NM氟化锂，3-100mm，单晶<100>方向产品编码：LiFC002 直径(mm)：3-100 厚度(mm)：0.5-60 晶体结构：单晶晶向：<100> 形状：可定制直径公差(mm)：+0.0/-0.1 厚度公差(mm)：±0.1 材质：氟化锂透过范围：116nm 密度(g/cm³)：2.639 REACH报告：符合标准 ROHS报告：符合标准
更多参数+ 收回	3-100	0.5-60	单晶	<111>
极紫外116NM氟化锂，3-100mm，单晶<111>方向产品编码：LiFC001 直径(mm)：3-100 厚度(mm)：0.5-60 晶体结构：单晶晶向：<111> 形状：可定制直径公差(mm)：+0.0/-0.1 厚度公差(mm)：±0.1 材质：氟化锂透过范围：116nm 密度(g/cm³)：2.639 REACH报告：符合标准 ROHS报告：符合标准

材料数据表Material Data
光学特性Optical Properties
透过范围Transmission Range	0.11-7μm
透过率Transmittance	>94.8%@0.6μm
反射损耗Reflection Loss	5.2%@0.6μm(both surfaces)
吸收系数Absorption Coefficienet	5.9×10-3@4.3μm
结构Structure	Cubic Crystal System
解离面Cleavage Planes	<100>
物理特性Physical Properties
密度Density[g/cm3]	2.639
熔点Melting Point [℃]	848
热导率ThermalConductivity [W/(m×K)]	11.3 @ 314K
热膨胀系数Thermal Expansion [10-6/K]	37.0 @ 283K
努氏硬度Knoop Hardness [kg/mm2]	415
比热容Specific Heat Capacity [J/(kg×K)]	1562
介电常数Dielectric Constant	7.33 @ 1 MHz
杨氏模量Young's Modulus (E) [GPa]	64.79
剪切模量Shear Modulus(G) [GPa]	55.14
体积模量Bulk modulus(K) [GPa]	62.03
泊松系数Poisson Coefficient	0.22
化学特性Chemical Properties
溶解度Solubility / g/L	2.7g @ 20℃
分子量Molecular Weight / g/mol	25.9394